制备氧化铈薄膜：在半导体器件制造中，可通过化学气相沉积技术制备氧化铈绝缘薄膜。如在集成电路制造工艺中，采用该技术制备的绝缘膜，绝缘电阻可达\(10^{12}\)Ω 以上，提高了半导体器件的性能和可靠性。此外，通过溶胶 - 凝胶法，硝酸铈铵可制备出氧化铈减反射膜用于太阳能电池表面，能减少光线反射，增加光的透过率，提高光电转换效率。 制备透明导电膜：硝酸铈铵可与铟锡氧化物（ITO）等复合，通过电化学沉积等方法制备透明导电膜，用于平板显示器。该复合薄膜可见光透过率大于 90%，方块电阻可达几十欧姆每平方，能满足平板显示器对透明导电膜的性能要求。 铜箔精密蚀刻：在印刷电路板（PCB）制作中，硝酸铈铵蚀刻液可选择性去除未被光刻胶保护的铜层，形成电路图案。其优势在于蚀刻速率可控、边缘平整，适用于高精度线路的加工。与传统的氯化铁蚀刻液相比，硝酸铈铵蚀刻液对环境的污染较小，且废液处理相对容易。 蚀刻金属层：在半导体器件的金属化工艺中，硝酸铈铵可用于蚀刻钛、钽等金属层，精度高且对硅基底的损伤小。例如在芯片制造中，可用于蚀刻钛或氮化钛等阻挡层，还可辅助制备半导体薄膜，通过蚀刻调整薄膜厚度或图案，用于光电器件的制造。